瀏覽次數：56發(fā)布日期：2023-04-25 08:44:08
退火爐是半導體設備制造中使用的一種過程，包括加熱多個半導體晶片，以影響其電氣性能。熱處理是為不同的效果而設計的。加熱晶片激 活摻雜劑，將薄膜轉化為薄膜或將薄膜轉化為晶片襯底界面，使致密沉積的薄膜改變生長膜的狀態(tài)，修 復注射損傷，移動摻雜劑或將摻雜劑從一個薄膜轉移到另一個薄膜或從薄膜進入晶片襯底。
退火爐可集成到其他爐子處理步驟中，如氧化或自行處理。退火爐由專門為加熱半導體晶片而設計的設備完成。退火爐為節(jié)能周期式工作爐，超節(jié)能結構，采用纖維結構，節(jié)能百分之六十。
根據熱源分類，退火爐主要包括電熱爐、燃煤退火爐、燃油退火爐、天 然氣退火爐、燃氣退火爐等，其中自備燃氣發(fā)生爐生產的燃氣退火爐應用為廣泛。氣體退火窯減去燃燒室，直接用氣體燃燒器在加熱室噴射燃燒。為了降低能耗，氣體退火窯經常配備熱交換系統(tǒng)，將空氣轉化為燃燒熱空氣。
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